Magnetronsko raspršenje (Magnetron sputtering) je standardna metoda za deponiranje tankih filmova. Svojstva plazme generirane raspršenjem u magnetronskom izvoru ovise o broju vanjskih parametara, a ponajviše o izvoru napona i o postignutim nivoima snage. U ovom istraživanju korišten je izvor napona niske snage u DC modu, te izvor napona visoke snage u tzv. High power impulse magnetron sputtering (hipims) modu. Fokus istraživanja je na prostornom i vremenskom razvoju plazme, pogotovo u HiPIMS modu, te utjecaj na transportna svojstva plazme, o čemu ovise svojstva deponiranih tankih filmova. Korištenjem brze ICCD kamere otkriveno je da plazma nije homogena, već da je lokalizirana u samo-organizirajućim uzorcima, poznatima kao ionizacijske zone ili spokes. Istraživanjem svojstva ionizacijskih zona upotrebom raznih dijagnostika plazme se pokušavaju razumjeti fizički procesi nastanka i održivosti ionizacijskih zona te njihov utjecaj na transportna svojstva plazme.